PLUTO-30(30L)等離子清洗機

專用氣體輸送系統╃╃│，提供氣體分配均勻性和靈活的氣體分配方法

不同工藝模式（RIE↟│╃、下游等離子體等）的柔性電極配置

獨特的射頻系統提供卓越的工藝重複性和處理效率

全自動處理能力

圖形使用者介面支援配方編輯器↟│╃、配方驅動流程並提供實時流程資訊

臺式設計需要較小的佔地面積

典型應用

表面活化

提高表面能量以提高材料粘合性◕☁₪╃：預壓模粘合；預焊線粘合

增強表面膠體流動性◕☁₪╃：預成型；預倒裝晶片下溢

表面粗糙度和蝕刻

降低表面應力╃╃│，改善表面粘結性

灰化和表面清潔

Plasma等離子蝕刻（配備RIE配置)

電介質/III-IV材料

奈米塗層（配備液體前體輸送裝置）

耐水奈米塗層◕☁₪╃：印刷電路板表面處理

防腐奈米塗層◕☁₪╃：醫療器械╃╃│，醫療植入物